等離子清洗設備可廣泛應用于半導體制造過程中。半導體制造涉及多個步驟，其中之一是可以清潔半導體設備表面，去除沉積物、有機物、灰塵等污染物，確保設備的質(zhì)量和性能。等離子清洗設備可以利用等離子體產(chǎn)生的活性離子和化學反應，可以在非常小的尺度上進行清洗。