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產(chǎn)品中心

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CIF等離子去膠機(jī)

產(chǎn)品參數(shù)

特別適合于大學(xué),科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè) 實(shí)驗(yàn)室,對(duì)電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、MEMS制造過程中犧牲層,干刻或濕刻處理前或后,對(duì)基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除,以及晶圓表面預(yù)處理等。
屬性
產(chǎn)品名稱
型號(hào)
廠商性質(zhì)
訪問量
更新時(shí)間
詳情
CIF等離子去膠機(jī)
SPB-5/plus
生產(chǎn)廠家
70次
2024-03-18

產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品特點(diǎn)

  7 寸彩色觸摸屏互動(dòng)操作界面,自動(dòng)控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),20 個(gè)配方程序,工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯。

◆  PLC 工控機(jī)控制整個(gè)去膠過程,手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。

◆  石英真空艙,全真空管路系統(tǒng)采用 316 不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕無污染。

◆  可選用石英舟,更適合晶元硅片去膠應(yīng)用。

◆  采用花灑式多孔道進(jìn)氣方式,改變單孔進(jìn)氣不均勻問題。

◆  采用防腐數(shù)字流量計(jì),實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體輸入精準(zhǔn)控制。標(biāo)配雙路氣體輸送系統(tǒng),可選多氣路氣體輸送系統(tǒng),氣體分配均勻。 可輸入氧氣、氬氣、氮?dú)?、氫氣或混合氣等氣體。

◆  HEPA 高效過濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。

◆  處理高效均勻,效率高,工藝重復(fù)性好。

◆  樣品處理溫度低,無熱損傷和熱氧化。

◆  安全保護(hù),艙門打開,自動(dòng)關(guān)閉電源,機(jī)器運(yùn)行、停止提示。


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